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您的位置(zhì):首頁 / 產(chǎn)品(pǐn)展(zhǎn)示 / / 熱賣!SEN日(rì)森(sēn) / SP-3-2HSEN日(rì)森小王(wáng)子 冷陰(yīn)極(jí)筆式 燈(dēng) 365nm 燈管(guǎn)
液(yè)晶顯示(shì)器件,觸摸屏,半導體(tǐ)矽(guī)芯(xīn)片(piàn),集成電(diàn)路,高精(jīng)度印(yìn)製電(diàn)路板(bǎn),光學器件,石(shí)英(yīng)晶體,密封技(jì)術(shù),帶氧化(huà)膜的(dí)金(jīn)屬(shǔ)材料臭(chòu)氧(yǎng)濃度檢測儀用UV燈管SEN日(rì)森小(xiǎo)王子 冷陰極筆(bǐ)式(shì) 燈(dēng) 365nm 燈管(guǎn)
產品型號:SP-3-2H
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更新(xīn)時間:2025-11-03
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SEN日森(sēn)小王子 冷(lěng)陰極筆式 燈(dēng) 365nm 燈管
SEN日森(sēn)小(xiǎo)王(wáng)子 冷陰(yīn)極筆式 燈(dēng) 365nm 燈管(guǎn)
SEN日(rì)森(sēn)
紫外綫(xiàn)清洗(xǐ)
紫(zǐ)外光清洗(xǐ)的(dí)工(gōng)作(zuò)原(yuán)理
紫外光清洗技(jì)術是利用(yòng)有機(jī)化(huà)合物的光敏氧化(huà)作用達(dá)到(dào)去除黏附在材料(liào)表麵(miàn)上的有機物質,經過光清洗(xǐ)後的(dí)材(cái)料表麵可以達到“原(yuán)子(zǐ)清潔度"。更(gēng)詳盡(jìn)的講(jiǎng):UV光(guāng)源(yuán)發射波長為185nm和254nm的光波,具(jù)有(yǒu)很高(gāo)的能(néng)量,當這些光(guāng)子作用(yòng)到(dào)被清洗物(wù)體(tǐ)表(biǎo)麵時,由於大(dà)多數碳氫(qīng)化(huà)合物對(duì)185nm波長(cháng)的紫外(wài)光具有(yǒu)較強的吸(xī)收能力,並在(zài)吸收(shōu)185nm波長的(dí)紫外光的(dí)能量後(hòu)分(fēn)解(jiě)成離子(zǐ),遊(yóu)離態原子(zǐ),受(shòu)激分(fēn)子和(hé)中(zhōng)子,這(zhè)就是(shì)所(suǒ)謂(wèi)光敏作(zuò)用。空氣中(zhōng)的(dí)氧氣分(fēn)子(zǐ)在(zài)吸收(shōu)了(liǎo)185nm波長(cháng)的(dí)紫(zǐ)外光(guāng)後也會產生臭氧(yǎng)和原(yuán)子氧。臭(chòu)氧對254nm波(bō)長的紫外(wài)光同(tóng)樣(yàng)具(jù)有強(qiáng)烈(liè)的(dí)吸(xī)收作(zuò)用,臭氧(yǎng)又分解為原(yuán)子(zǐ)氧和(hé)氧(yǎng)氣。其中原子(zǐ)氧是(shì)極活潑的,在它作用下,物體表(biǎo)麵上的碳和(hé)碳(tàn)氫化合物(wù)的(dí)分解物可化合成可(kě)揮發的(dí)氣體:二氧化(huà)碳和(hé)水(shuǐ)蒸氣(qì)等逸出表(biǎo)麵,清(qīng)除了黏(nián)附在(zài)物(wù)體(tǐ)表麵上的(dí)碳(tàn)和(hé)有機汙染物。清(qīng)洗(xǐ)時,使(shǐ)基板治濕性(xìng)向上(shàng)。玻璃(lí)基板(bǎn)是(shì)以(yǐ)滾(gǔn)輪方式輸送,上(shàng)方裝(zhuāng)置低壓水(shuǐ)銀燈產生紫(zǐ)外綫(xiàn)照(zhào)射。玻(bō)璃基板(bǎn)所累積(jī)紫(zǐ)外(wài)綫能量愈多(duō),其表(biǎo)麵(miàn)水(shuǐ)接觸愈(yù)小,成反比(bǐ)關(guān)係(xì)。一般(bān)STN-LCD製作過程中,需求的(dí)玻璃基板累積(jī)紫外綫能(néng)量為(wéi)300nj/cm2(2537nm)以上(shàng)。而彩(cǎi)STN-LCD及彩色(sè)濾(lǜ)光片(piàn)製作過(guò)程中(zhōng),要求的(dí)玻(bō)璃(lí)基(jī)板累(léi)積(jī)紫外綫能量(liáng)600mj/cm2(2537nm)。
適用(yòng)範圍液晶顯(xiǎn)示(shì)器件,觸摸屏(píng),半(bàn)導(dǎo)體矽(guī)芯(xīn)片,集成電(diàn)路,高(gāo)精(jīng)度(dù)印(yìn)製電(diàn)路板,光(guāng)學(xué)器(qì)件(jiàn),石英晶(jīng)體(tǐ),密封技術, 主要材(cái)料:ITO玻璃(lí),光(guāng)學(xué)玻璃(lí),鉻板,掩膜板,拋(pāo)光(guāng)石英晶(jīng)體,矽芯片和帶有氧(yǎng)化膜的金(jīn)屬(shǔ)等(děng)進行(háng)精(jīng)密(mì)清(qīng)洗處(chǔ)理。可以去(qù)除(chú)汙(wū)垢(gòu):有機性汙(wū)垢(gòu),人體(tǐ)皮脂(zhī),化妝(zhuāng)品油脂,樹脂(zhī)添加劑及(jí)聚酰(xiān)亞胺,石蠟,鬆香,潤滑(huá)油,殘餘的(dí)光刻膠等(děng)使(shǐ)用紫(zǐ)外(wài)綫清洗時要注意(yì)以下(xià)幾個(gè)方麵(miàn):
(1) 汙垢中的(dí)無(wú)極成(chéng)分或處(chǔ)理(lǐ)後的灰分(fēn)會殘留在(zài)物體表(biǎo)麵,因此需(xū)要(yào)采用相(xiāng)應的(dí)辦(bàn)法進一步(bù)清(qīng)除(chú),如加裝真空(kōng)除塵或與(yǔ)超聲波幹(gān)洗配(pèi)套使(shǐ)用。
(2)處理時(shí),當清洗對象(xiàng)表麵與(yǔ)照(zhào)射光(guāng)源(yuán)距離(lí)稍遠時,產生(shēng)的臭(chòu)氧會自(zì)動(dòng)分(fēn)解失去作用,一(yī)定要注意(yì)清洗表(biǎo)麵(miàn)與光(guāng)源的(dí)距離(lí),也(yě)就是注意(yì)平台(tái)或傳送(sòng)帶上工(gōng)件(jiàn)的高度(dù)或厚度(dù)。
(3)這(zhè)種處(chǔ)理方法(fǎ)要求紫(zǐ)外(wài)綫(xiàn)能(néng)透過清(qīng)洗(xǐ)對(duì)象表(biǎo)麵,對有立(lì)體(tǐ)結構的(dí)清洗對(duì)象不太適(shì)合,隻(zhī)能清洗表(biǎo)麵結構的物(wù)體。
(4)由(yóu)於(yú)需(xū)防止臭(chòu)氧(yǎng)擴散(sàn)對人體造(zào)成(chéng)損(sǔn)害,需(xū)要(yào)在封(fēng)閉裝置中進行(háng)清洗。
(5)由於臭氧(yǎng)是(shì)通(tōng)過氧(yǎng)化(huà)反(fǎn)應(yīng)去(qù)除(chú)汙(wū)垢(gòu)的(dí),所(suǒ)以容(róng)易(yì)被氧(yǎng)化的表麵不能(néng)用(yòng)這種(zhǒng)方(fāng)法處(chǔ)理。

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