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產品(pǐn)展示(shì)/ Product display

您的位置(zhì):首(shǒu)頁  /  產品(pǐn)展(zhǎn)示  /    /  熱賣!SEN日(rì)森  /  SP-3-2LSEN日森小王子(zǐ) 冷(lěng)陰極(jí)筆(bǐ)式(shì) 燈(dēng) 365nm 燈管(guǎn)

SEN日森小王子 冷陰極筆(bǐ)式 燈 365nm 燈管

液晶顯示器件,觸摸(mō)屏,半(bàn)導體矽芯片(piàn),集(jí)成(chéng)電(diàn)路,高(gāo)精度(dù)印製電路板,光(guāng)學器(qì)件,石(shí)英晶體(tǐ),密(mì)封(fēng)技(jì)術,帶氧(yǎng)化膜的金屬材料(liào)
臭氧(yǎng)濃度(dù)檢測儀用(yòng)UV燈管(guǎn)
SEN日森小王(wáng)子 冷陰(yīn)極筆(bǐ)式 燈 365nm 燈(dēng)管

  • 產(chǎn)品(pǐn)型(xíng)號:SP-3-2L
  • 廠商(shāng)性質:經銷商
  • 更(gēng)新時(shí)間(jiān):2025-11-03
  • 訪  問  量:1231
詳細介紹

SEN日(rì)森(sēn)小王子 冷陰極筆式(shì) 燈 365nm 燈管

SEN日森(sēn)小王子 冷(lěng)陰極筆式 燈(dēng) 365nm 燈管


    SEN日森
    紫(zǐ)外綫清(qīng)洗
    紫外光清洗的工作原理(lǐ)
    紫外光清洗技(jì)術是利用有機化合物(wù)的光(guāng)敏氧化作用達到(dào)去(qù)除黏附在(zài)材料(liào)表(biǎo)麵上的(dí)有機物質(zhì),經(jīng)過光(guāng)清(qīng)洗後的材料表麵(miàn)可(kě)以達到(dào)“原子(zǐ)清潔度(dù)"。更詳盡(jìn)的講(jiǎng):UV光源發(fā)射波長(cháng)為(wéi)185nm和(hé)254nm的(dí)光波,具(jù)有(yǒu)很高的(dí)能(néng)量(liáng),當(dāng)這些光(guāng)子作用到(dào)被清洗物體表(biǎo)麵時(shí),由於大(dà)多數碳氫(qīng)化合物對(duì)185nm波長的(dí)紫外光(guāng)具有較(jiào)強的吸收(shōu)能力(lì),並在吸收185nm波長的紫外光(guāng)的能(néng)量(liáng)後(hòu)分(fēn)解成(chéng)離子,遊離態(tài)原子,受(shòu)激分子(zǐ)和中子,這就是所謂(wèi)光(guāng)敏作用。空氣中的(dí)氧氣分子(zǐ)在吸(xī)收了(liǎo)185nm波(bō)長的(dí)紫(zǐ)外光後也(yě)會產(chǎn)生臭(chòu)氧和原(yuán)子(zǐ)氧(yǎng)。臭(chòu)氧對254nm波長(cháng)的紫(zǐ)外光同(tóng)樣(yàng)具有強(qiáng)烈(liè)的(dí)吸(xī)收作(zuò)用,臭氧(yǎng)又分解為原子氧(yǎng)和氧氣。其(qí)中(zhōng)原子氧(yǎng)是極活潑(pō)的,在它(tā)作用下,物體表(biǎo)麵上的(dí)碳(tàn)和碳氫化(huà)合物的分解物(wù)可(kě)化(huà)合成(chéng)可揮發的氣體:二氧化(huà)碳(tàn)和(hé)水(shuǐ)蒸(zhēng)氣等(děng)逸(yì)出(chū)表(biǎo)麵,清除(chú)了(liǎo)黏附在物(wù)體表麵(miàn)上的(dí)碳(tàn)和有(yǒu)機汙染物。清洗時,使(shǐ)基板(bǎn)治(zhì)濕性(xìng)向上(shàng)。玻(bō)璃(lí)基板(bǎn)是以(yǐ)滾(gǔn)輪方式輸送,上(shàng)方裝置(zhì)低壓水銀燈產生(shēng)紫外綫(xiàn)照射。玻(bō)璃基(jī)板所累積紫外綫(xiàn)能量愈多(duō),其表麵水接(jiē)觸愈小,成(chéng)反比關係。一般STN-LCD製作過(guò)程(chéng)中(zhōng),需(xū)求的(dí)玻(bō)璃基板累積(jī)紫外(wài)綫能(néng)量(liáng)為(wéi)300nj/cm2(2537nm)以上(shàng)。而(ér)彩STN-LCD及彩(cǎi)色濾光片(piàn)製作(zuò)過(guò)程中(zhōng),要求的(dí)玻璃(lí)基板累積紫(zǐ)外綫(xiàn)能(néng)量(liáng)600mj/cm2(2537nm)。


    產品特點:
    UV光清洗機PL16-110
    1.本裝置是為了運(yùn)用(yòng)短波(bō)長紫外綫進行(háng)表麵處理,幹式(shì)清洗(xǐ)的效果而作(zuò)的試驗機(jī)。
    2.試(shì)驗台到光源(yuán)使(shǐ)用(yòng)特(tè)定的(dí)升(shēng)降機(jī)可(kě)以任意改變(biàn)高度(dù),照度(dù)可(kě)以使(shǐ)用(yòng)照(zhào)度(dù)計測定。
    3.抽(chōu)出(chū)式(shì)試驗(yàn)台,旋轉式(shì)照(zhào)射台(tái)等(děng)多(duō)種姊妹產品(pǐn)供(gōng)您(nín)選(xuǎn)擇。
    產品(pǐn)描(miáo)述(shù):
    桌上型表麵處理裝(zhuāng)置其主要原(yuán)理(lǐ)為(wéi)紫外綫燈發出(chū)的185nm波(bō)長和(hé)254nm波(bō)長具有(yǒu)很(hěn)高的能量(liáng),高(gāo)於(yú)大(dà)多數(shù)有機物的(dí)結(jié)合(hé)能量(liáng)。
    由於大(dà)多(duō)數碳氫(qīng)化(huà)合物對185nm波長的紫(zǐ)外綫(xiàn)具(jù)有較(jiào)強(qiáng)的(dí)吸(xī)收(shōu)能(néng)力,並(bìng)且(qiě)可(kě)以在吸(xī)收(shōu)185nm波長後(hòu)分(fēn)解(jiě)成(chéng)離子(zǐ),流(liú)離(lí)態原(yuán)子,受激分(fēn)子和中子等,這(zhè)就是(shì)光(guāng)敏作(zuò)用。
    空氣(qì)中的氧(yǎng)分子(zǐ)在吸收(shōu)了(liǎo)185nm波(bō)長(cháng)的紫外(wài)光後(hòu),會(huì)產生(shēng)臭氧(yǎng)和(hé)氧氣,臭氧對(duì)254nm波(bō)長具(jù)有很強的(dí)吸收性(xìng),臭氧有可以分解為氧原(yuán)子和氧氣。
    氧(yǎng)原子(zǐ)具有氧(yǎng)化(huà)性(xìng),可(kě)以(yǐ)將碳(tàn)氫(qīng)化合(hé)鍵切(qiē)斷(duàn),生成水和二氧化(huà)碳等易揮(huī)發氣體(tǐ),從被(bèi)照射物(wù)表麵飄逸出(chū),清除物(wù)體表麵的(dí)汙染物。
    規格:


    適(shì)用範圍(wéi)液晶(jīng)顯示器(qì)件(jiàn),觸摸屏,半(bàn)導(dǎo)體(tǐ)矽芯(xīn)片,集(jí)成(chéng)電(diàn)路,高精度印製電路(lù)板(bǎn),光(guāng)學器件,石(shí)英(yīng)晶體,密(mì)封技(jì)術(shù),  主要(yào)材料:ITO玻(bō)璃(lí),光(guāng)學玻璃,鉻板(bǎn),掩膜板,拋(pāo)光石英晶(jīng)體,矽(guī)芯片(piàn)和(hé)帶有(yǒu)氧化膜(mó)的金屬等進(jìn)行精密清(qīng)洗(xǐ)處理(lǐ)。可(kě)以去除(chú)汙垢:有(yǒu)機性(xìng)汙垢,人體皮(pí)脂,化(huà)妝品油脂(zhī),樹脂添加(jiā)劑(jì)及(jí)聚(jù)酰亞胺(àn),石(shí)蠟(là),鬆(sōng)香,潤(rùn)滑(huá)油(yóu),殘餘的(dí)光刻(kè)膠等(děng)使(shǐ)用(yòng)紫(zǐ)外綫(xiàn)清洗時要(yào)注(zhù)意(yì)以(yǐ)下幾(jī)個方(fāng)麵:

    (1) 汙垢(gòu)中的無極(jí)成分(fēn)或處理後(hòu)的(dí)灰(huī)分會(huì)殘(cán)留在物體表(biǎo)麵,因(yīn)此需要采用相應(yīng)的辦法進一(yī)步清除,如(rú)加(jiā)裝真空除(chú)塵或與超(chāo)聲(shēng)波幹洗配套(tào)使用。

    (2)處(chǔ)理時(shí),當清(qīng)洗對(duì)象表(biǎo)麵與照(zhào)射(shè)光源(yuán)距離稍(shāo)遠時(shí),產生的臭氧(yǎng)會(huì)自(zì)動分(fēn)解失去作(zuò)用,一(yī)定要(yào)注(zhù)意(yì)清洗表麵(miàn)與(yǔ)光源(yuán)的(dí)距(jù)離(lí),也(yě)就(jiù)是注(zhù)意平台(tái)或(huò)傳送(sòng)帶上(shàng)工件的(dí)高度(dù)或(huò)厚度。

    (3)這種(zhǒng)處理(lǐ)方法要求(qiú)紫外(wài)綫能(néng)透(tòu)過清(qīng)洗(xǐ)對象(xiàng)表麵,對(duì)有(yǒu)立(lì)體(tǐ)結(jié)構(gòu)的(dí)清洗對象(xiàng)不(bù)太適合,隻(zhī)能清洗表麵(miàn)結(jié)構的物體(tǐ)。

    (4)由於(yú)需防(fáng)止臭氧(yǎng)擴(kuò)散對人(rén)體(tǐ)造成損害(hài),需(xū)要(yào)在封閉(bì)裝置(zhì)中(zhōng)進行清洗。

    (5)由於(yú)臭氧是(shì)通(tōng)過(guò)氧化(huà)反應去(qù)除汙(wū)垢的,所(suǒ)以容易(yì)被氧(yǎng)化(huà)的(dí)表麵不能用這(zhè)種(zhǒng)方法處理。







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