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您(nín)的(dí)位置:首(shǒu)頁 / 產(chǎn)品展示 / / 熱(rè)賣(mài)!SEN日(rì)森 / SL5DH/SL5UH-4SEN日森小(xiǎo)王(wáng)子(zǐ) 冷陰(yīn)極(jí)筆式(shì) 燈 365nm 燈(dēng)管
液晶(jīng)顯示(shì)器件,觸摸屏,半導(dǎo)體矽(guī)芯片(piàn),集(jí)成(chéng)電路(lù),高精(jīng)度(dù)印(yìn)製電路板,光學(xué)器件(jiàn),石(shí)英晶體(tǐ),密(mì)封(fēng)技術(shù),帶氧(yǎng)化(huà)膜的(dí)金屬材(cái)料臭(chòu)氧(yǎng)濃度(dù)檢測儀(yí)用UV燈(dēng)管SEN日(rì)森(sēn)小(xiǎo)王(wáng)子 冷陰極筆式 燈(dēng) 365nm 燈管(guǎn)
產品型號(hào):SL5DH/SL5UH-4
廠商性質:經銷(xiāo)商
更(gēng)新時間(jiān):2025-11-03
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SEN日(rì)森小(xiǎo)王子(zǐ) 冷陰極(jí)筆式 燈 365nm 燈(dēng)管
SEN日森小(xiǎo)王(wáng)子 冷陰(yīn)極(jí)筆(bǐ)式(shì) 燈 365nm 燈管
SEN日森
紫(zǐ)外(wài)綫(xiàn)清洗(xǐ)
紫外(wài)光(guāng)清洗的工(gōng)作(zuò)原理
紫外光清(qīng)洗(xǐ)技(jì)術(shù)是利用(yòng)有機(jī)化(huà)合(hé)物(wù)的光敏氧化作用達到去除(chú)黏附在材(cái)料(liào)表麵上(shàng)的有(yǒu)機物(wù)質(zhì),經(jīng)過(guò)光清(qīng)洗(xǐ)後(hòu)的材料(liào)表麵可以(yǐ)達(dá)到(dào)“原(yuán)子清(qīng)潔度"。更(gēng)詳盡的講(jiǎng):UV光源發(fā)射(shè)波長(cháng)為(wéi)185nm和(hé)254nm的光波(bō),具(jù)有很(hěn)高的能量,當這(zhè)些(xiē)光子(zǐ)作用(yòng)到(dào)被清(qīng)洗(xǐ)物體(tǐ)表麵時,由於大(dà)多數(shù)碳氫化(huà)合(hé)物(wù)對(duì)185nm波長(cháng)的紫(zǐ)外(wài)光具有較強的吸(xī)收能(néng)力(lì),並(bìng)在吸收185nm波長(cháng)的紫外光的(dí)能量後分解(jiě)成離子,遊離態原子,受(shòu)激分子和中(zhōng)子,這就是(shì)所謂(wèi)光敏(mǐn)作用(yòng)。空(kōng)氣中的(dí)氧氣分子在吸收了(liǎo)185nm波長的紫外(wài)光後也會產生臭氧和原子(zǐ)氧(yǎng)。臭氧對(duì)254nm波(bō)長的紫外(wài)光同(tóng)樣(yàng)具(jù)有強(qiáng)烈的(dí)吸(xī)收作用,臭氧(yǎng)又分(fēn)解為原子氧(yǎng)和(hé)氧氣。其中原子氧是(shì)極活(huó)潑的,在(zài)它(tā)作(zuò)用下,物體(tǐ)表麵(miàn)上的(dí)碳和(hé)碳氫(qīng)化合(hé)物(wù)的(dí)分解(jiě)物可化(huà)合成可(kě)揮發(fā)的(dí)氣(qì)體:二氧化碳和水(shuǐ)蒸氣等逸出表麵,清除了黏附在物體表麵(miàn)上的碳(tàn)和有(yǒu)機(jī)汙染(rǎn)物(wù)。清洗(xǐ)時,使(shǐ)基(jī)板治濕(shī)性(xìng)向(xiàng)上。玻(bō)璃基(jī)板是以滾輪(lún)方(fāng)式(shì)輸(shū)送,上方裝(zhuāng)置(zhì)低(dī)壓水(shuǐ)銀燈產生紫外綫照射。玻璃基(jī)板(bǎn)所累積(jī)紫(zǐ)外(wài)綫(xiàn)能(néng)量(liáng)愈多,其(qí)表(biǎo)麵(miàn)水(shuǐ)接觸(chù)愈小,成(chéng)反(fǎn)比關係。一(yī)般STN-LCD製作過程(chéng)中,需(xū)求的玻璃基板(bǎn)累(léi)積紫(zǐ)外(wài)綫能(néng)量為300nj/cm2(2537nm)以上(shàng)。而(ér)彩(cǎi)STN-LCD及(jí)彩(cǎi)色(sè)濾(lǜ)光(guāng)片製(zhì)作過程(chéng)中(zhōng),要求(qiú)的(dí)玻(bō)璃(lí)基板累積紫外綫能量600mj/cm2(2537nm)。
適(shì)用(yòng)範圍(wéi)液晶(jīng)顯(xiǎn)示(shì)器件,觸(chù)摸(mō)屏(píng),半(bàn)導(dǎo)體(tǐ)矽(guī)芯片,集(jí)成電(diàn)路,高(gāo)精(jīng)度印(yìn)製電路板,光學器件(jiàn),石英晶體(tǐ),密(mì)封(fēng)技(jì)術(shù), 主(zhǔ)要材料:ITO玻璃,光學(xué)玻(bō)璃,鉻板,掩(yǎn)膜板(bǎn),拋光石(shí)英晶(jīng)體,矽(guī)芯(xīn)片(piàn)和帶有(yǒu)氧化膜的金(jīn)屬等進(jìn)行(háng)精密清(qīng)洗(xǐ)處理。可(kě)以去(qù)除(chú)汙垢:有機性(xìng)汙垢,人體(tǐ)皮(pí)脂(zhī),化妝(zhuāng)品油(yóu)脂,樹脂添加劑(jì)及聚酰亞(yà)胺(àn),石蠟,鬆香,潤(rùn)滑(huá)油,殘餘(yú)的(dí)光(guāng)刻膠等使(shǐ)用紫外(wài)綫清(qīng)洗時要注意以(yǐ)下幾個(gè)方(fāng)麵:
(1) 汙(wū)垢(gòu)中的無極(jí)成(chéng)分(fēn)或處(chǔ)理(lǐ)後的(dí)灰分會殘留(liú)在物體表麵(miàn),因此(cǐ)需(xū)要采(cǎi)用相應的辦法(fǎ)進(jìn)一(yī)步(bù)清除(chú),如加裝(zhuāng)真空(kōng)除塵或與超(chāo)聲波幹洗(xǐ)配套(tào)使用。
(2)處(chǔ)理時(shí),當清洗(xǐ)對象(xiàng)表(biǎo)麵(miàn)與照射光源(yuán)距離稍遠時(shí),產生的(dí)臭氧(yǎng)會自(zì)動(dòng)分解失(shī)去作(zuò)用,一定(dìng)要(yào)注意清洗(xǐ)表麵(miàn)與光源的距離(lí),也就是注意(yì)平台或傳(chuán)送帶上工(gōng)件的(dí)高(gāo)度(dù)或(huò)厚(hòu)度(dù)。
(3)這(zhè)種處(chǔ)理(lǐ)方(fāng)法要求紫(zǐ)外綫能(néng)透(tòu)過清洗對象表(biǎo)麵,對(duì)有立(lì)體(tǐ)結構的清洗對(duì)象不太適(shì)合,隻能(néng)清(qīng)洗表麵結構的(dí)物體。
(4)由(yóu)於需(xū)防止(zhǐ)臭氧擴散對人體(tǐ)造成(chéng)損害(hài),需要(yào)在封(fēng)閉裝置中(zhōng)進行清洗。
(5)由於臭氧是通過氧(yǎng)化(huà)反(fǎn)應去除(chú)汙垢的,所以(yǐ)容易被氧(yǎng)化的(dí)表麵不能用(yòng)這種方法處理。
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