SEN日森小王子(zǐ) 冷(lěng)陰極筆(bǐ)式 燈(dēng) 365nm 燈管

SEN日森小(xiǎo)王子 冷(lěng)陰(yīn)極筆(bǐ)式 燈 365nm 燈管(guǎn)

適(shì)用範(fàn)圍液晶顯示(shì)器件，觸摸屏(píng)，半(bàn)導(dǎo)體(tǐ)矽芯片(piàn)，集成電路，高(gāo)精(jīng)度印(yìn)製(zhì)電路板，光(guāng)學器件，石(shí)英(yīng)晶(jīng)體，密(mì)封(fēng)技術(shù)，  主要材料：ITO玻(bō)璃，光學玻(bō)璃(lí)，鉻(gè)板，掩膜板，拋(pāo)光(guāng)石(shí)英(yīng)晶(jīng)體(tǐ)，矽芯片和帶(dài)有(yǒu)氧化膜的金屬(shǔ)等(děng)進行精(jīng)密清洗處(chǔ)理(lǐ)。可以去(qù)除(chú)汙(wū)垢(gòu)：有(yǒu)機性(xìng)汙(wū)垢(gòu)，人(rén)體(tǐ)皮(pí)脂，化妝品(pǐn)油(yóu)脂(zhī)，樹(shù)脂添加(jiā)劑(jì)及(jí)聚(jù)酰亞(yà)胺(àn)，石蠟，鬆(sōng)香，潤滑(huá)油，殘餘(yú)的光刻膠等使用紫外綫(xiàn)清洗(xǐ)時要注(zhù)意(yì)以下(xià)幾(jī)個(gè)方(fāng)麵(miàn)：

（1） 汙(wū)垢中(zhōng)的無極成(chéng)分或處(chǔ)理後(hòu)的(dí)灰分會殘(cán)留(liú)在物(wù)體表麵
，因(yīn)此需要采用相應(yīng)的辦法(fǎ)進一步清除
，如(rú)加裝(zhuāng)真空(kōng)除(chú)塵或與(yǔ)超(chāo)聲波幹(gān)洗配套使用。

（2）處理時
，當(dāng)清(qīng)洗對象表(biǎo)麵與(yǔ)照射光源距離稍遠(yuǎn)時(shí)
，產生(shēng)的(dí)臭氧(yǎng)會(huì)自動分(fēn)解失去作用
，一定(dìng)要注(zhù)意清(qīng)洗表麵(miàn)與光源的距(jù)離(lí)
，也(yě)就(jiù)是注(zhù)意平台或傳送(sòng)帶(dài)上(shàng)工(gōng)件的高(gāo)度(dù)或(huò)厚度。

（3）這種(zhǒng)處(chǔ)理方(fāng)法要求紫外綫能透(tòu)過清洗(xǐ)對(duì)象表(biǎo)麵
，對(duì)有(yǒu)立體結構(gòu)的清洗對(duì)象不(bù)太(tài)適(shì)合(hé)
，隻能清(qīng)洗表麵(miàn)結構的物體(tǐ)。

（4）由(yóu)於(yú)需防(fáng)止臭(chòu)氧(yǎng)擴散(sàn)對(duì)人體(tǐ)造(zào)成(chéng)損害
，需(xū)要(yào)在封(fēng)閉裝置中(zhōng)進(jìn)行(háng)清洗(xǐ)。

（5）由(yóu)於(yú)臭(chòu)氧是通(tōng)過(guò)氧化(huà)反應(yīng)去(qù)除汙垢的
，所以容(róng)易(yì)被(bèi)氧化的(dí)表(biǎo)麵不能用這種方法處理。