矽片(piàn)晶圓清(qīng)洗方(fāng)式

更新(xīn)時間：2023-12-20

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半導體器件(jiàn)生產中矽片(piàn)須(xū)經嚴格清(qīng)洗(xǐ)。微量汙(wū)染也會導致器(qì)件失(shī)效(xiào)。清(qīng)洗(xǐ)的目(mù)的在於清除(chú)表麵汙(wū)染(rǎn)雜(zá)質，包(bāo)括(kuò)有機物(wù)和(hé)無(wú)機(jī)物(wù)。這(zhè)些(xiē)雜質(zhì)有(yǒu)的以(yǐ)原子狀(zhuàng)態(tài)或離子狀態，有的(dí)以薄膜形(xíng)式(shì)或(huò)顆(kē)粒形式(shì)存(cún)在於(yú)矽片表麵。有(yǒu)機(jī)汙(wū)染(rǎn)包(bāo)括光(guāng)刻膠(jiāo)，有(yǒu)機(jī)溶(róng)劑(jì)殘留物，合成(chéng)蠟和人接觸(chù)器件(jiàn)，工(gōng)具(jù)，器(qì)皿(mǐn)帶(dài)來的油(yóu)脂(zhī)或纖維(wéi)。無(wú)機汙(wū)染包(bāo)括(kuò)重(zhòng)金屬金，銅(tóng)，鐵(tiě)，鉻等，嚴重影響(xiǎng)少數(shù)載流子壽命和表麵(miàn)電(diàn)導；鹼(jiǎn)金屬(shǔ)如鈉(nà)等，引起(qǐ)嚴重漏(lòu)電；顆粒(lì)汙(wū)染包括矽渣，塵(chén)埃，細菌，微生物，有(yǒu)機膠體(tǐ)纖維等，會導致(zhì)各種缺陷。清除汙染(rǎn)的方法(fǎ)有物理(lǐ)清(qīng)洗和化學清(qīng)洗兩種(zhǒng)。

物(wù)理(lǐ)清洗(xǐ)

物理清(qīng)洗有三種(zhǒng)方(fāng)法。①刷洗或擦洗:可(kě)除去顆粒(lì)汙(wū)染(rǎn)和大多數粘(nián)在片子上的(dí)薄(báo)膜。②高壓清(qīng)洗：是(shì)用液體噴射片子表麵，噴嘴(zuǐ)的(dí)壓(yā)力高達(dá)幾百個(gè)大氣壓。高壓清(qīng)洗靠噴(pēn)射作用，片子不(bù)易產生(shēng)劃痕和(hé)損傷(shāng)。但(dàn)高壓噴射會產(chǎn)生靜電(diàn)作(zuò)用，靠調(tiáo)節(jié)噴嘴到片子的距離(lí)，角度或(huò)加(jiā)入防靜電(diàn)劑加以避免。③超聲(shēng)波清(qīng)洗：超聲波(bō)聲能(néng)傳入溶液(yè),靠(kào)氣蝕作用洗掉片(piàn)子上的汙染。但是(shì),從有圖(tú)形(xíng)的(dí)片子上除去(qù)小(xiǎo)於 1微米顆(kē)粒則(zé)比(bǐ)較困難(nán)。將(jiāng)頻率提高到超高(gāo)頻頻段，清洗效(xiào)果更好。

化學清洗(xǐ)

化學清(qīng)洗(xǐ)是為了(liǎo)除(chú)去(qù)原子，離子(zǐ)不可見(jiàn)的汙(wū)染,方(fāng)法(fǎ)較(jiào)多,有溶(róng)劑(jì)萃取，酸洗(xǐ)（硫(liú)酸，硝(xiāo)酸，王水，各種混(hùn)合(hé)酸等）和等(děng)離子(zǐ)體(tǐ)法(fǎ)等。其中(zhōng)雙(shuāng)氧(yǎng)水體(tǐ)係(xì)清洗方(fāng)法效果好，環境汙染小(xiǎo)。一(yī)般方法(fǎ)是(shì)將矽片(piàn)先用成分比(bǐ)為H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸(suān)性(xìng)液清洗。清(qīng)洗(xǐ)液的(dí)強(qiáng)氧(yǎng)化性(xìng),將有機(jī)物分解(jiě)而除(chú)去；用(yòng)超純(chún)水衝洗後(hòu),再用(yòng)成(chéng)分比(bǐ)為(wéi)H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1或(huò)5:1:1或7:2:1的鹼性清洗液(yè)清洗,由(yóu)於(yú)H2O2的氧化(huà)作用(yòng)和NH4OH的絡合作用，許多(duō)金屬(shǔ)離子形成(chéng)穩(wěn)定(dìng)的可(kě)溶性絡合物(wù)而溶(róng)於(yú)水(shuǐ)；然(rán)後(hòu)使用成分比(bǐ)為H2O:H2O2:HCL=7:2:1或(huò)5:2:1的(dí)酸(suān)性清洗液，由於H2O2的氧(yǎng)化(huà)作用和(hé)鹽(yán)酸的溶(róng)解，以及氯離(lí)子(zǐ)的(dí)絡合性，許(xǔ)多金屬生成(chéng)溶(róng)於水的絡離(lí)子，從而達到清(qīng)洗的(dí)目的(dí)。

放(fàng)射示(shì)蹤原子分(fēn)析(xī)和(hé)質譜分析(xī)表明(míng)，采(cǎi)用(yòng)雙氧水體係清洗(xǐ)矽(guī)片，同(tóng)時所用(yòng)的(dí)全部化(huà)學試(shì)劑 H2O2，NH4OH，HCl能夠揮(huī)發掉(diào)。用(yòng)H2SO4和H2O2清(qīng)洗(xǐ)矽片時，在(zài)矽(guī)片表麵(miàn)會(huì)留下約2×1010原子(zǐ)每平方(fāng)厘米(mǐ)的(dí)硫(liú)原(yuán)子，用後一(yī)種(zhǒng)酸(suān)性(xìng)清洗液時可以被(bèi)清(qīng)除。用(yòng)H2O2體係(xì)清(qīng)洗矽(guī)片無殘(cán)留物，有(yǒu)害(hài)性(xìng)小，也有(yǒu)利於(yú)工(gōng)人健康(kāng)和環(huán)境(jìng)保護。矽(guī)片清洗中用各步清洗液(yè)處理(lǐ)後，都要用超純(chún)水(shuǐ)衝洗。

晶(jīng)圓，鏡片，玻(bō)璃，電路板表麵檢(jiǎn)測(cè)用(yòng) LED超高(gāo)亮(liàng)度光源 PSVLX1-F5016

特(tè)點： 1. LED冷光源(yuán)，不(bù)會(huì)在(zài)照(zhào)射表麵產生(shēng)高溫。 2. 20000小時(shí)長(cháng)壽(shòu)命。 3. 采(cǎi)用低(dī)功耗(hào)高(gāo)效LED，無風(fēng)扇(shàn)自(zì)然(rán)散(sàn)熱，適合無塵(chén)車間(jiān)使(shǐ)用。 4. 通(tōng)過使用(yòng)可(kě)選(xuǎn)配(pèi)件濾(lǜ)鏡，可在黃光(guāng)和白光(guāng)之間切換(huàn)。規格(gé)：照(zhào)度(dù) LWD 150mm時(shí)， 15萬(wàn)Lux。光斑大小 LWD 150mm時，光斑直(zhí)徑65~80mm可調。電壓 AC 100~240V。消(xiāo)耗(hào)功率最(zuì)大(dà)30W。重(zhòng)量光(guāng)源 1.7Kg，電源(yuán)0.8Kg。最大尺(chǐ)寸(cùn) 長290mm，寬(kuān)180mm，高(gāo)610mm。

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