小(xiǎo)王子分(fēn)享ALD設備原理(lǐ)

更(gēng)新(xīn)時間：2024-08-30

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小王子(zǐ)分享ALD設備(bèi)原理

ALD設備配備有不(bù)鏽鋼(gāng)或鋁製(zhì)成(chéng)的真(zhēn)空室，由(yóu)原料氣體供給部(bù)分，排(pái)出原(yuán)料(liào)氣(qì)體(tǐ)的排(pái)氣部(bù)分(fēn)以(yǐ)及控製過程的控製(zhì)單元組(zǔ)成。

充當前(qián)體的(dí)有(yǒu)機金屬材(cái)料(liào)稱為(wéi)前體。首先，將前體(tǐ)引(yǐn)入(rù)真(zhēn)空(kōng)室並(bìng)吸附到(dào)基板的表麵上(shàng)。之後(hòu)，將室抽(chōu)真空一次以去除多餘(yú)的(dí)前驅體(tǐ)，然(rán)後氧化和氮(dàn)化以形成(chéng)薄膜(mó)。

一個原子層(céng)在(zài)一(yī)個(gè)循(xún)環(huán)中(zhōng)形成(chéng)，並(bìng)且可以通(tōng)過(guò)多次重復(fù)該循環來(lái)沉積薄(báo)膜。由於(yú)膜厚(hòu)根據(jù)循環(huán)次(cì)數(shù)而(ér)變(biàn)化，因此(cǐ)具(jù)有膜厚(hòu)控製性高的(dí)特點(diǎn)。吹掃工(gōng)藝(yì)在ALD成膜(mó)過程中也非(fēi)常重(zhòng)要，因(yīn)為腔室中(zhōng)殘留的不(bù)同前驅(qū)體(tǐ)和氧化源(yuán)會(huì)對(duì)薄(báo)膜(mó)質量產(chǎn)生負(fù)麵影(yǐng)響(xiǎng)。

為(wéi)了(liǎo)提高沉(chén)積效(xiào)率，可(kě)以加熱(rè)基底(dǐ)或(huò)等(děng)離子體(tǐ)輔(fǔ)助基(jī)底。加(jiā)熱法稱為(wéi)熱(rè)ALD，等離子體輔助法(fǎ)稱為等(děng)離(lí)子(zǐ)體(tǐ)ALD。

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